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The Generation of a Highly Uniform and Dense Plasma by Distributing Hollow-Cathode on the Electrode Surface
https://hi-tech.repo.nii.ac.jp/records/1736
https://hi-tech.repo.nii.ac.jp/records/17361c545d3d-81a7-493c-8e40-62c0ff100e3e
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
01_14_001-006_1 (66.7 kB)
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.png)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2012-06-07 | |||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||
| タイトル | The Generation of a Highly Uniform and Dense Plasma by Distributing Hollow-Cathode on the Electrode Surface | |||||||||||||||||
| 言語 | ||||||||||||||||||
| 言語 | eng | |||||||||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||||||||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||||||||||||||
| 著者 |
菅原, 実
× 菅原, 実
× ASAMI, Toshiharu
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| 書誌情報 |
p. 1-6, 発行日 1995-02-28 |
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| 出版者 | ||||||||||||||||||
| 出版者 | 八戸工業大学 | |||||||||||||||||
| ISSN | ||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||||||||||||||
| 収録物識別子 | 0287-1866 | |||||||||||||||||
| 書誌レコードID | ||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||||||||||||
| 収録物識別子 | AN00205113 | |||||||||||||||||
| 論文ID（NAID） | ||||||||||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||||||||||
| 内容記述 | 120005891641 | |||||||||||||||||
| 関連サイト | ||||||||||||||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||||||||||||||
| 関連識別子 | http://www.hi-tech.ac.jp/ | |||||||||||||||||
| 関連名称 | 八戸工業大学 | |||||||||||||||||
