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二次加工した微細溝の形状解析に関する研究
https://hi-tech.repo.nii.ac.jp/records/2404
https://hi-tech.repo.nii.ac.jp/records/240466b02bb0-f24b-46b5-84f5-eea987df1a8e
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
02_03_013-015 (473.1 kB)
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.png)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| 公開日 | 2012-06-07 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| タイトル | 二次加工した微細溝の形状解析に関する研究 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| タイトル | Microstructure Analysis on Micro Groove prepared by"2nd Process" | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 言語 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 言語 | jpn | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| キーワード | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 主題 | 2nd_process | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| キーワード | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 主題 | micro_groove | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| キーワード | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 主題 | micro_structure | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 著者 |
中村, 勇夫
× 中村, 勇夫
× 堀井, 信弘
× 佐藤, 裕哉
× 関, 秀廣
× 佐藤, 松雄
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| 著者別名 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 著者別名 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 著者別名 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 著者別名 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 著者別名 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 抄録 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 内容記述 | This paper denoted a new type reflector on the micro groove on LCD display. This processing was named as "2nd process",which was the additional processing on the surface prepared as LCD reflector. Micro pattern using the"2nd process"was made by sputtering on the surface which was firstly prepared micro groove on it. Random concavo-convex pattern is made by the filter with the weave of 390 and 500 mesh. The pattern had in nanometer order thickness with crossed line. It was shown that this pattern was useful to prevent the reflection on LCD display | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 書誌情報 |
p. 13-15 |
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| 論文ID（NAID） | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 内容記述 | 110003483579 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 関連サイト | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 関連識別子 | http://www.hi-tech.ac.jp/ | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 関連名称 | 八戸工業大学 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
